CQ9(电子中国)官方网站

集成电路版图设计项目教程项目5电容电阻电感版图pptx—CQ9电子-游戏官方网站
集成电路版图设计项目教程项目5电容电阻电感版图pptx
栏目:行业资讯 发布时间:2025-06-10
 .电阻版图的形状一般由三种,最简单的就是一个矩形电阻如图上所示。它两端是接触孔,通过接触孔将接触的导电材料连起来,这样几乎所有的电流都通过一个接触孔,经过这个接触孔流过导体,后经另一个接触孔流出。电阻的计算长度为两个接触孔之间的距离,宽度为电阻体的宽度。  .第二种版图形状一般适合于大电阻,通常被做成折叠状,如图中所示一般采用矩形拐角,容易绘制,电阻拐角以及其间距容易调整。一般不作成圆形或其他

  .电阻版图的形状一般由三种,最简单的就是一个矩形电阻如图上所示。它两端是接触孔,通过接触孔将接触的导电材料连起来,这样几乎所有的电流都通过一个接触孔,经过这个接触孔流过导体,后经另一个接触孔流出。电阻的计算长度为两个接触孔之间的距离,宽度为电阻体的宽度。

  .第二种版图形状一般适合于大电阻,通常被做成折叠状,如图中所示一般采用矩形拐角,容易绘制,电阻拐角以及其间距容易调整。一般不作成圆形或其他特殊形状,这样不宜调整。电流不会均匀的流过折叠电阻的拐角处。

  .另外的一种版图形状主要适用于当电阻体部分宽度很小,版图绘制时,接触孔无法放入电阻内部。这时通常加大电阻的两端,形状如图下所示,称为哑铃状电阻。

  .多晶硅的电阻率取决于掺杂,重掺杂的多晶硅用作MOS管栅极可以改善电阻的导电性能。本征掺杂或者轻掺杂的多晶硅采用N型源漏注入和P型源漏注入的掺杂方式来改变方块电阻。

  .多晶硅电阻结构如图上中所示,图上是以POLY1做电阻时的版图,图中由轻掺杂的N型多晶硅构成的高阻多晶

  POLY2电阻。POLY2电阻在端头处多加了N型注入,是为了降低端头接触电阻。

  .如果在做注入时把多晶硅电阻挡住,那么它的电阻值将增加2-3倍。如图下所示,在注入时加一个HR的掩模板,

  CQ9电子游戏平台 CQ9电子官方入口

  电阻体的部分被挡住,只有电阻两端头的地方留出,以便掺杂注入来减少欧姆接触电阻。

  .了解一下三种工艺Silicide、Policide、Salicide,都是利用硅化物来降低多晶电阻。其中,Silicide是金属硅化物,是由金属和硅经过物理-化学反应形成的一种化合态,其导电特性介于金属和硅之间,

  其一般制造过程是,栅氧化层完成以后,继续在其上面生长多晶硅,然后在多晶硅上继续生长金属硅化物Silicide,然后再进行栅极刻蚀和有源区注入等其它工序,完成整个芯片制造。

  先是完成栅刻蚀及源漏注入以后,以溅射的方式在多晶硅上淀积一层金属层,然后进行第一次快速升温煺火处理,使多晶硅表面和淀积的金属发生反应,形成金属硅化物。

  区别:polycide降低栅极电阻;silicide降低源漏电阻;salicide既能降低栅极电阻,又能降低源漏电阻。

  .CMOS工艺中常用的有MOS电容、多晶硅-多晶硅(PIP)电容、金属-金属(MIM)电容、MOM电容(Metal-

  电容器,此电容器结构如图所示,它是以栅氧化层作为介质,多晶硅为上极板,衬底为下极板。工作在反型区的MOS电容要求源漏相连,一旦出现强反型,导电沟道就会使源漏短接。此时,沟道就是MOS电容的下极板,多晶硅构成电容的上极板,MOS电容的版图与常规MOS晶体管的版图一样。电容值

  多晶硅-绝缘体-多晶硅电容(Poly-Insolator-Poly,PIP)需要两次多晶硅工艺,比单层多晶硅要多几道工序。

  Polycide工艺除了大面积掺杂的多晶硅栅之外,还增加了第二层用于制作多晶高阻。多晶硅栅用作PIP电容的下极板,

  而高阻的多晶层作为上极板,如图所示。PIP电容的上下极板不能互换。PIP不可避免的存在寄生电容,如电容上极板与上层的互连线,下极板与衬底。而这些寄生电容通常与电容自身的大小,版图形状,工艺参数有关。可以通过版图设计,工艺控制尽可能减小。通常上极板的寄生电容小于下极板。如图所示是PIP电容版图。

  MIM)是指两层金属电极和中间的介质膜组成的电容。它一般远离衬底,以减少寄生效应。通常采用顶层金属和其下面一层作为MIM电容。MIM

  电容如图所示。MIM电容在集成电路中较为普遍,用于匹配、滤波、隔直流等。

  MOM电容(Metal-Oxide-Metal):插指(finger)电容,利用同一层金属布线边沿之间的电容并联

  一般只在多层金属的先进工艺上使用,因为是通过多层布线的版图来实现的,匹配最好,MOM电容设计自由度比较高,不需要额外光刻,只需要金属布线这一层。由于是同一层金属布线,因此电容极板处于同一平面,极板接法可以互换。

  .CMOS工艺中,目前使用最为广泛的一种集成电感是片上螺旋电感,在芯片上以平面电感实现。

  .平面电感分别为圆形、八边形、方形等结构,由于受到工艺设计规则限制,拐角的角度不能任意,因此,圆形平面电感很难绘制,所以正方形结构目前应用比较广泛。

  CQ9电子 CQ9电子游戏官网

  .片上螺旋电感的电感值主要由圈数、金属线宽度、金属线间距、内外直径等横向尺寸参数确定,而其寄生电容和电阻是由横向尺寸参数和纵向尺寸参数共同确定的。.一般选用最高金属层来做电感,可以降低电感与衬底之间的氧化层电容,在CMOS工艺中,最上层金属总是

  最厚的。电感内圈的抽头通过下一层金属线和通孔连接。.电感版图如图所示,集成电感常用于射频IC。

  2、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。

  3、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。

  4、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

  原创力文档创建于2008年,本站为文档C2C交易模式,即用户上传的文档直接分享给其他用户(可下载、阅读),本站只是中间服务平台,本站所有文档下载所得的收益归上传人所有。原创力文档是网络服务平台方,若您的权利被侵害,请发链接和相关诉求至 电线) ,上传者